新型VisionPad 3200及VisionPad 3500研磨墊在金屬研磨方面兼具軟、硬研磨墊之優點。
中國上海，2007年7月12日 — 在全球半導體行業化學機械研磨（CMP）技術及創新方面處于領先地位的羅門哈斯電子材料公司CMP技術事業部近日宣布其VisionPad™研磨墊系列又增添了兩款新品。這兩款產品可提供世界級的低生產缺陷率，極高的研磨能力和更長的使用壽命。
產品亮點：
• VisionPad 3200可大幅降低生產缺陷率，并具備Politex™的標準研磨能力以及更長的銅阻障層研磨壽命。這些改進設計可增加客戶所在企業的產能，提高產量，減少停工時間。
• VisionPad 3500在銅阻障層研磨方面同時具備IC1000™的研磨效果和Politex™的低缺陷率水平。此外，它還適用于鎢研磨及銅清洗作業。
VisionPad 3200及VisionPad 3500專為需要使用高級金屬加工工藝的半導體制造商設計。這兩款研磨墊應用獨特的化學研磨技術，可最大程度地減少晶圓上的劃痕、振紋及其他缺陷，從而提高晶粒產量。羅門哈斯在制造這兩種新型研磨墊時采用了已獲專利的聚氨酯配方，使其表面比傳統硬研磨墊更軟，可有效降低缺陷率，同時又具有必要的硬度，以確保一流的研磨性能。
VisionPad 3200及VisionPad 3500的使用壽命要長于傳統的軟研磨墊，與傳統硬研磨墊相當，因此十分方便用戶在各種研磨機平臺上均衡使用，減少因研磨墊更換或條件限制而導致的停工時間。
“這些新產品代表著我們在研磨墊制造領域主要而及時的發展動向，”羅門哈斯電子材料公司CMP技術事業部副總裁Cathie Markham表示。“目前，我們的客戶正在向更高的制造工藝和節點遷移。相應地，我們也在開發和推出特別設計的新品，以滿足客戶日益變化的研磨需求。”
與傳統的軟研磨墊不同，VisionPad 3200及VisionPad 3500的性能及配置可調。用戶可重新配置這兩款研磨墊的表面特性以獲得長期穩定的最佳研磨效果。用戶可配置范圍包括這兩款研磨墊的多溝槽，子研磨墊及粘性配置。
羅門哈斯在VisionPad產品的生產過程中應用了SPC/SQC系統，以確保該系列產品的高質量和穩定性能。目前，這兩款新品已經面市，供用戶試用。
