| Synthesis and Characterization of Photosensitive Methacrylates to Give Heat-resistant Polymers |
| 關(guān)鍵詞： |
Synthesis Characterization Photosensitive Methacrylates Give Heat resistant Polymers |
| 類 別： |
涂料與助劑 >> 涂料 |
| 來 源： |
2006第四屆東亞高分子會(huì) |
| 資料類型： |
doc文件 |
| 資料大小： |
44K |
| 簡(jiǎn) 介： |
New photosensitive monomers having multiple methacryloyloxy groups were synthesized by the reaction of naphthalene and biphenyl derivatives containing two or more glycidyloxy groups with methacrylic acid. |
| 上傳人： |
jiangll319 |
| 上傳時(shí)間： |
2007-08-21 15:16:35 |
| 下載次數(shù)： |
26 |
| 消耗積分： |
2 |
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