新型干泵經優化用于需要較高氣體流量和靈活泵溫范圍（pump temperature profiles）的太陽能、平板顯示器和半導體工藝
英國西薩塞克斯郡，克勞雷 (2011年12月14日)－全球領先的真空和尾氣處理設備及服務供應商Edwards公司擴展其廣受歡迎的應用于嚴苛工藝的iXH產品系列，最新推出iXH500H系列干泵。新的500m3/h干泵系列針對需要較高氣體流量和靈活泵溫范圍的平板顯示器、太陽能和先進半導體工藝而優化，具有較低的能耗和較長的平均維護間隔時間(mean time between servicing， MTBS)，從而顯著降低了擁有成本，同時具備iXH450系列的小占位面積和氫氣抽取能力。
Edwards平板顯示器(FPD)和太陽能部門干泵產品經理Allister Watson博士表示：“iXH家族的新增系列設計用于應對平板顯示器、太陽能和先進半導體工藝中遇到的不同抽取挑戰，能夠顯著延長泵的平均維護間隔時間。迄今為止，行業缺乏具有應對這些不同挑戰靈活性的一體化嚴苛工藝干泵。而iXH500H系列具有更靈活地泵溫控制，能夠滿足這一需求，同時減少多達15%的能耗。因而相比上一代iXH干泵，iXH500H的擁有成本降低了30%。”
平板顯示器、太陽能和半導體制造商使用的真空泵必須適應廣泛的工作條件和材料。iXH500H系列具有溫度靈活性，因而適用于這類嚴苛工藝。iXH500H系列在低泵溫下運行，有益于使用高流量腐蝕性氣體的工藝(例如，FPD PECVD、薄膜太陽能PECVD、半導體MOCVD)，或使用熱敏前體（pre-cursor）(例如原子層沉積)能夠在泵內沉淀副產物的工藝。在有副產品物在泵內冷凝風險(例如高k電介質沉積)的場合，可以選擇高工作溫度的泵。
Edwards現可提供iXH500H系列干泵，并提供從現有的iXH450系列轉換至新型iXH500H系列的升級服務。
要了解更多的信息，請訪問公司網站：www.edwardsvacuum.com。
注解：
PECVD：等離子化學氣相沉積；
MOCVD：金屬有機化學氣相沉積
* 溫室氣體議定書 ——第三部分：間接排放
