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| 資料類型： |
PDF文件
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| 關(guān)鍵詞： |
四面體非晶碳 過濾陰極真空電弧 機械性能 應(yīng)力 |
| 資料大小： |
125K |
| 所屬學科： |
性能表征 |
| 來源： |
來源網(wǎng)絡(luò) |
| 簡介： |
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采用過濾陰極真空電弧技術(shù)以相同的工藝條件在p（100）單晶硅襯底上制備了不同厚度的四面體非晶碳薄膜，并利用表面輪廓儀測試薄膜的厚度和應(yīng)力，利用納米壓入儀測試薄膜的硬度、楊氏模量和臨界刮擦載荷。試驗表明，在一定的掃描波形條件下，薄膜大約以0.7nm/s的沉積速率穩(wěn)定生長。隨著膜厚的增加，薄膜的應(yīng)力持續(xù)降低，當膜厚超過30nm時，應(yīng)力將低于5GPa；當膜厚超過300nm時，硬度和楊氏模量分別將近70GPa和750GPa，已經(jīng)十分接近體金剛石的性能指標。另外，隨著膜厚增加所產(chǎn)生的應(yīng)力變化，也導(dǎo)致了可見光拉曼光譜非對稱寬峰的峰位逐漸向低頻偏移。 |
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| 上傳人： |
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| 上傳時間： |
2007-07-11 14:31:26 |
| 下載次數(shù)： |
586 |
| 消耗積分： |
2
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