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膜厚對四面體非晶碳膜機械性能的影響 |
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資料類型: |
PDF文件
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關鍵詞: |
四面體非晶碳 過濾陰極真空電弧 機械性能 應力 |
資料大?。?/td>
| 125K |
所屬學科: |
性能表征 |
來源: |
來源網絡 |
簡介: |
采用過濾陰極真空電弧技術以相同的工藝條件在p(100)單晶硅襯底上制備了不同厚度的四面體非晶碳薄膜,并利用表面輪廓儀測試薄膜的厚度和應力,利用納米壓入儀測試薄膜的硬度、楊氏模量和臨界刮擦載荷。試驗表明,在一定的掃描波形條件下,薄膜大約以0.7nm/s的沉積速率穩定生長。隨著膜厚的增加,薄膜的應力持續降低,當膜厚超過30nm時,應力將低于5GPa;當膜厚超過300nm時,硬度和楊氏模量分別將近70GPa和750GPa,已經十分接近體金剛石的性能指標。另外,隨著膜厚增加所產生的應力變化,也導致了可見光拉曼光譜非對稱寬峰的峰位逐漸向低頻偏移。 |
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上傳人: |
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上傳時間: |
2007-07-11 14:31:26 |
下載次數: |
586 |
消耗積分: |
2
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