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Si襯底上La0.8Sr0.2MnO3/SrMnO3雙層結(jié)構(gòu)研究

資料類型：

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關(guān)鍵詞：

LSMO薄膜 SMO緩沖層擇優(yōu)取向生長界面擴(kuò)散

資料大小：

121K

所屬學(xué)科：

結(jié)構(gòu)表征

來源：

來源網(wǎng)絡(luò)

簡介：

利用磁控濺射方法在Si(100)襯底上首先生長SrMnO3(SMO)作為緩沖層，再沉積La0.8Sr0.2MnO3(LSMO)薄膜，得到(110)面擇優(yōu)生長的LSMO/SMO雙層結(jié)構(gòu)。利用X射線衍射儀分析了SMO緩沖層的結(jié)構(gòu)特征對LSMO薄膜擇優(yōu)取向生長的影響；利用Rutherford背散射(RBS)分析了LSMO/SMO間的界面情況。結(jié)果表明：以SMO作為單一緩沖層時，不僅可以實現(xiàn)LSMO薄膜在Si(100)襯底上的（110）面的擇優(yōu)生長，而且LSMO/SMO的界面擴(kuò)散現(xiàn)象也不明顯。

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2007-07-17 11:09:13

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