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疏水型納米SiO2-MTES復合薄膜的制備及性能

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溶膠-凝膠疏水復合薄膜甲基三乙氧基硅烷

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性能表征

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簡介：

采用溶膠―凝膠技術,通過酸/酸二步法控制實驗條件，由于表面活性劑具有特殊的表面活性性能，實驗中采用表面活性劑十六烷基三甲基溴化氨（CTAB）為模板劑，正硅酸乙酯為硅源，甲基三乙氧基硅烷為有機硅烷，以及二次去離子水，鹽酸為催化劑等原料制備SiO2-MTES（摩爾比1：1.15）前驅體溶膠。通過簡單提拉迅速蒸發溶劑等方法制備二氧化硅－甲基三乙氧基硅烷的有機-無機復合薄膜，測得的紅外透射光譜表明所制備的薄膜由于摻入甲基基團而疏水，接觸角測試值約125度，其結果進一步支持這一結論。未加MTES的薄膜折射率為1.18，膜厚305nm。加入MTES后薄膜折射率為1.22，膜厚為289.6nm。透射光譜和機械性能測試結果表明所制備的疏水型納米SiO2-MTES復合薄膜同時還具有良好的光學性能和機械性能。

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2007-07-09 14:34:28

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