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MWNT/Ag/UV樹脂納米壓印復(fù)合材料的研究

資料類型：

PDF文件

關(guān)鍵詞：

改性多壁碳納米管銀 UV固化電阻率納米壓印

資料大小：

244K

所屬學(xué)科：

分子表征

來源：

2009年全國(guó)高分子學(xué)術(shù)論文報(bào)告會(huì)（8.18-8.22，天津）

簡(jiǎn)介：

納米壓印技術(shù)（nanoimprintlithography.NIL）的研究始于普林斯頓大學(xué)納米結(jié)構(gòu)實(shí)驗(yàn)室StephenY.Chou教授[1]。將一具有納米圖案的模版以機(jī)械力在涂有高分子材料的基板上等比例壓印復(fù)制納米圖案，其加工分辨率只與模版圖案的尺寸有關(guān)，而不受光學(xué)光刻的最短曝光波長(zhǎng)的物理限制，目前NIL技術(shù)已經(jīng)可以制作線寬在5nm以下的圖案[2]。IsaacW.Moran等[3]將紫外固化樹脂進(jìn)行預(yù)固化來提高納米壓印中基材對(duì)PDMS模版的脫模性，制得高質(zhì)量的納米線。JChoi等[4]采用碳納米管/光固化樹脂復(fù)合材料，通過納米壓印的方法制備出導(dǎo)電的納米線路結(jié)構(gòu)。但由于進(jìn)行納米壓印的光刻膠本身并非常規(guī)意義上的良導(dǎo)體，限制了其在實(shí)際生產(chǎn)中的應(yīng)用。本論文提出將碳納米管、納米銀粒子和UV樹脂三者有機(jī)結(jié)合，通過一定的工藝手段在其內(nèi)部構(gòu)造出三維導(dǎo)電網(wǎng)絡(luò)，從而極大提高復(fù)合材料的導(dǎo)電性能，以滿足實(shí)際應(yīng)用的需要。

作者：

王普天王慧慧魏杰

上傳時(shí)間：

2009-09-17 11:12:52

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