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MWNT/Ag/UV樹脂納米壓印復合材料的研究

資料類型：

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關鍵詞：

改性多壁碳納米管銀 UV固化電阻率納米壓印

資料大小：

244K

所屬學科：

分子表征

來源：

2009年全國高分子學術論文報告會（8.18-8.22，天津）

簡介：

納米壓印技術（nanoimprintlithography.NIL）的研究始于普林斯頓大學納米結構實驗室StephenY.Chou教授[1]。將一具有納米圖案的模版以機械力在涂有高分子材料的基板上等比例壓印復制納米圖案，其加工分辨率只與模版圖案的尺寸有關，而不受光學光刻的最短曝光波長的物理限制，目前NIL技術已經可以制作線寬在5nm以下的圖案[2]。IsaacW.Moran等[3]將紫外固化樹脂進行預固化來提高納米壓印中基材對PDMS模版的脫模性，制得高質量的納米線。JChoi等[4]采用碳納米管/光固化樹脂復合材料，通過納米壓印的方法制備出導電的納米線路結構。但由于進行納米壓印的光刻膠本身并非常規意義上的良導體，限制了其在實際生產中的應用。本論文提出將碳納米管、納米銀粒子和UV樹脂三者有機結合，通過一定的工藝手段在其內部構造出三維導電網絡，從而極大提高復合材料的導電性能，以滿足實際應用的需要。

作者：

王普天王慧慧魏杰

上傳時間：

2009-09-17 11:12:52

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