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零級抑制相位掩膜法刻寫偶氮苯聚合物亞微米表面起伏光柵的周期倍增現(xiàn)象

資料類型：

PDF文件

關(guān)鍵詞：

偶氮表面起伏光柵亞微米光柵相位掩膜

資料大小：

184K

所屬學(xué)科：

分子表征

來源：

2009年全國高分子學(xué)術(shù)論文報告會（8.18-8.22，天津）

簡介：

光柵在很多場合具有潛在的應(yīng)用前景，諸如分布反饋激光器、平面波導(dǎo)耦合器、偏振器件等等。周期小于一微米的光柵稱為亞微米光柵。目前，光柵的制作常見的方法有電子束刻蝕、雙光束干涉刻寫、掩膜法刻寫等等。相比前兩種方法，掩膜法刻寫過程更為經(jīng)濟(jì)、便捷，且少受環(huán)境因素影響。

作者：

武文軒，羅艷華，張其錦

上傳時間：

2009-09-21 13:15:59

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相關(guān)評論 共有1人發(fā)表評論

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SRxiaoming 2011-06-25 13:52:42

thx......

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