私密直播全婐app免费大渔直播,国产av成人无码免费视频,男女同房做爰全过程高潮,国产精品自产拍在线观看

搜索：

您所在的位置：首頁 > 科學研究 > 學術論文 > 零級抑制相位掩膜法刻寫偶氮苯聚合物亞微米表面起伏光柵的周期倍增現象

零級抑制相位掩膜法刻寫偶氮苯聚合物亞微米表面起伏光柵的周期倍增現象

資料類型：

PDF文件

關鍵詞：

資料大小：

184K

所屬學科：

分子表征

來源：

簡介：

光柵在很多場合具有潛在的應用前景，諸如分布反饋激光器、平面波導耦合器、偏振器件等等。周期小于一微米的光柵稱為亞微米光柵。目前，光柵的制作常見的方法有電子束刻蝕、雙光束干涉刻寫、掩膜法刻寫等等。相比前兩種方法，掩膜法刻寫過程更為經濟、便捷，且少受環境因素影響。

作者：

武文軒，羅艷華，張其錦

上傳時間：

2009-09-21 13:15:59

下載次數：

消耗積分：

立即下載：

好

2人

中

1人

差

1人

友情提示：下載后對該資源進行評論，即可獎勵2分。

報告錯誤：

相關評論 共有1人發表評論

SRxiaoming 2011-06-25 13:52:42

thx......

你還沒有登錄，無法發表評論，請首先

免責聲明：本站部分資源由網友推薦，來自互聯網，版權屬于原版權人，如果不慎侵犯到您的權利，敬請告知，我們會在第一時間撤除。本站中各網友的評論只代表其個人觀點，不代表本站同意其觀點。

最新上傳資料
·	分子自組裝與有序薄膜
·	聚合動力學研究：從揭示反應機理...
·	智能性生物醫用高分子的合成及其...
·	嵌段共聚物膠束的功能化
·	復雜性復合膠體
·	探索大自然的奧秘——大分子自組...
·	中國石油高分子領域技術發展趨勢
·	Self-assembly of nanoparticle...
·	高分子材料與工程專業畢業設計的...
·	地方二本高校“高分子材料與工程...
·	數均聚合度的教學思考
·	高分子物理雙語教學
·	高分子學科教學改革與實踐探討—...
更多>>

<menuitem id="nxvc5"></menuitem>

<p id="nxvc5"><nav id="nxvc5"></nav></p>