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PCVD 法制備硅系納米復合薄膜材料 |
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| 資料類型： |
PDF文件
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| 關鍵詞： |
PCVD制備技術 硅系材料 納米復合薄膜 |
| 資料大小： |
171K |
| 所屬學科： |
高分子化學 |
| 來源： |
來源網絡 |
| 簡介： |
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納米復合薄膜材料由于具有傳統復合材料和現代納米材料兩者的優點，成為重要的前沿研究領域之一。其中半導體納米復合材料，尤其是硅系納米復合薄膜，由于具有獨特的光電性能，加之與集成電路相兼容的制備技術，有著廣泛的應用前景。近年來關于納米復合薄膜的研究不斷深入，但仍有許多問題沒有完全解決。本文圍繞硅系納米復合薄膜的材料特點，說明了等離子體化學氣相沉積(PCVD)技術的工作原理和裝置結構，以及該技術在硅系納米復合薄膜制備中的獨特優點。并以氮化硅薄膜為重點，介紹納米復合薄膜材料的PCVD制備技術。文章最后對硅系納米復合薄膜的在光電技術等各個領域的應用前景做了一些展望。 |
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| 上傳人： |
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| 上傳時間： |
2007-07-06 15:49:29 |
| 下載次數： |
7036 |
| 消耗積分： |
2
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