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一種高分子超薄膜相轉變溫度的測定方法
發明/申請人:盧曉林,李柏霖
專利號/申請號:ZL201410274669.X
授權/申請日期:2014-6-18
本發明涉及一種高分子超薄膜相轉變溫度的測定方法。本發明將高分子超薄膜鍍在基底上,采用脈沖式的一束可見光和一束紅外光照射到鍍在基底的高分子超薄膜上,由于金屬基底的光學非線性響應將發射出一束可探測的表面等離子體的光學信號。通過測定不同溫度下高分子超薄膜的結構變化對表面等離子體信號強度的擾動,即可得到信號強度隨溫度變化的曲線,該曲線的轉折點即為相應高分子超薄膜的相轉變溫度。該方法測量簡單,準確度高,重現性好,可以實現原位測量,具有廣闊的應用前景。
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