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基于短暫性構架的高電導率石墨烯薄膜的制備方法
發(fā)明/申請人:陳國華;劉飛翔;邱欣斌;董菁;陳丹青;黃劍華
專利號/申請?zhí)枺篫L201710311702.5
授權/申請日期:2020-7-10
基于短暫性構架的高電導率石墨烯薄膜的制備方法
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