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一種無金屬殘留、窄分子量分布的聚苯乙烯衍生物光刻膠樹脂前體的制備方法及應用
發(fā)明/申請人:胡克苓, 馬正峰, 孫鑫, 蘇成坤, 孫金明
專利號/申請?zhí)枺?024103940402
授權(quán)/申請日期:2024-4-2

本發(fā)明屬于光刻膠樹脂技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種無金屬殘留、窄分子量分布的聚苯乙烯衍生物光刻膠樹脂前體的制備方法及應用。本發(fā)明采用有機催化的活性自由基聚合技術(shù)(Reversible Complexed Mediated Polymerization, RCMP),選擇特殊結(jié)構(gòu)設(shè)計的有機碘代物作為自由基引發(fā)劑,四丁基碘化銨作為有機催化劑,通過優(yōu)化聚合反應條件制備得到一系列不同分子量范圍和分子量分布的光刻膠用樹脂前體聚苯乙烯衍生物,從源頭上避免了金屬離子和含硫變價基團的殘留,制備工序簡單,后續(xù)不需要提純除雜工藝可直接使用。

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