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雙連續相結構的高分子合金基納米復合材料及制備方法
發明/申請人:吳德峰,張明
專利號/申請號:ZL200610040873.0
授權/申請日期:2008-12-17

    本發明涉及一種具有雙連續相結構的聚對苯二甲酸丁二醇酯/聚 丙烯合金/蒙脫土高分子合金基納米復合材料制備方法。本發明按重 量份數:聚丙烯 50-70份,聚對苯二甲酸丁二醇酯 30-50份,有 機蒙脫土1.5-5份。將聚丙烯、聚對苯二甲酸丁二醇酯加入到密煉 機中,再加入有機蒙脫土,在230℃的溫度、50rpm轉子轉速下熔融 共混8-10min,得到具有雙連續相結構的聚對苯二甲酸丁二醇酯/聚 丙烯合金/蒙脫土高分子合金基納米復合材料。解決了蒙脫土簡單熔 融共混直接制備出的插層型納米復合材料在拉伸強度提高的同時韌 性卻下降的缺陷。本發明簡便易行且成本低廉,大幅提高聚對苯二甲 酸丁二醇酯/聚丙烯合金的拉伸及抗沖性能。

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