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直流金屬真空弧源沉積Ti-O薄膜在模擬人體液中的耐腐蝕性能研究

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關鍵詞：

Ti-O薄膜直流金屬真空弧源沉積腐蝕性能生物材料表面改性

資料大小：

78K

所屬學科：

模擬技術

來源：

來源網絡

簡介：

采用直流金屬真空弧源沉積（DC-MVAD）在316L-SS銹鋼基體上沉積合成了Ti-O系薄膜。在Hank’s模擬人體液中，對DC-MVAD合成鈦氧薄膜進行了開路電位、電化學極化以及電化學阻抗圖譜分析，顯示合成薄膜可明顯改善在人體環(huán)境中的耐腐蝕性能。隨著合成氧分壓的增加，薄膜的耐蝕能力增強。這主要是由于高O/Ti比的鈦氧薄膜具有更為穩(wěn)定的能量狀態(tài)、低的孔隙率所致。

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2007-07-10 17:43:57

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