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Perylrene-based n-type field-effect transistors prepared by the neutral cluster beam deposition method

資料類型：

PDF文件

關鍵詞：

neutral cluster beam deposition method

資料大小：

76K

所屬學科：

分子表征

來源：

2009年第8屆國際共軛高分子與有機納米結構光探測大會（6.6-6.10，北京)

簡介：

Wepresentthefirstapplicationoftheneutralclusterbeamdeposition(NCBD)methodtopreparen-typeorganicthin-filmtransistorswithatop-contactstructurebasedonN,N’-ditridecylperylene-3,4,9,10-tetracarboxylicdiimide(P13).Systematicanalysiswascarriedouttoexaminetheeffectsofsurfacepassivationandthermalpost-treatmentonthemorphologyandcrystallinityofP13activelayersanddeviceperformance,togetherwithoperationalstabilityasafunctionoftime.

作者：

Ying Zhang,* Hoon-seok Seo, Min-jun An, Jong-ho Choi

上傳時間：

2009-07-29 11:09:17

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