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WO3薄膜退火熱處理工藝的研究

資料類型：

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關鍵詞：

WO3 SEM XRD 薄膜退火

資料大小：

272K

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簡介：

采用真空鍍膜工藝在微晶玻璃襯底上沉積了WO3薄膜，WO3薄膜從300~600℃分別進行了退火熱處理,隨著退火熱處理溫度的不同，WO3薄膜從晶粒尺寸上以及晶相上都發生了較大的變化，并用SEM、XRD等手段進行了分析，隨著退火熱處理溫度的升高，WO3晶粒逐漸增大，并實現了從非晶向晶態的轉變，最終得到了六方結構并且是在[100]方向上擇優取向的WO3薄膜，獲得了穩定性較好的工藝條件，為進一步開發研制WO3氣敏元件提供了技術基礎。

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2007-07-06 16:16:06

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相關評論 共有3人發表評論

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LPT2006 2009-01-06 10:28:26

還行，挺有幫助的！

sunyusunyu77 2008-11-21 21:17:32

我覺得這篇文章不錯

sunyusunyu77 2008-11-21 21:13:16

這篇文章不是特別的好，但是非常感謝

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