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藍寶石襯底化學機械拋光的機理研究  
藍寶石襯底化學機械拋光的機理研究
資料類型: PDF文件
關鍵詞: 化學機械拋光  藍寶石襯底  機理  去除速率  動力學過程  
資料大小: 347K
所屬學科: 分子表征
來源: 2007年第六屆中國功能材料及其應用學術會議暨2007國際功能材料專題論壇論文集(11.15-11.19,武漢)
簡介:
利用磨料為SiO2的堿性拋光液對藍寶石襯底材料進行了化學機械拋光,并對藍寶石襯底化學機械拋光(簡稱CMP)的機理進行了深入的研究,指出了藍寶石CMP的主要的動力學過程,并詳細分析了影響各動力學過程的諸要素。結果表明,藍寶石襯底的CMP過程是一個復雜的多相反應過程,是化學作用與機械作用互相加強和促進的過程,影響它的各要素間既相互促進,又相互制約。
作者: 牛新環,劉玉嶺,檀柏梅,馬振國
上傳時間: 2008-05-16 15:12:30
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相關評論 共有4人發表評論 更多評論
houlei85    2013-05-30 10:01:58
小粒徑的磨料好嗎?
025zhu    2011-03-11 20:57:39
不是太具體其中沒有太多的技術參數
mpc2001    2008-12-08 11:08:49
還是不錯的。
chenchaoxuguoxiu    2008-12-04 16:46:15
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