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PDF文件
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| 關(guān)鍵詞： |
氧化鋅納米陣列 場發(fā)射 形貌 穩(wěn)定性 |
| 資料大小： |
489K |
| 所屬學(xué)科： |
分子表征 |
| 來源： |
2007年第六屆中國功能材料及其應(yīng)用學(xué)術(shù)會議暨2007國際功能材料專題論壇論文集(11.15-11.19，武漢) |
| 簡介： |
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采用物理氣相沉積的方法通過控制生長參數(shù)，在硅襯底上獲得不同形貌的氧化鋅納米陣列。在金屬場發(fā)射系統(tǒng)中測量了它們的場致電子發(fā)射性能，發(fā)現(xiàn)陰極發(fā)射電流不穩(wěn)定主要是由于氧化鋅納米陣列的不均勻性造成的。采用高壓勵煉技術(shù)可以增強(qiáng)氧化鋅場發(fā)射的穩(wěn)定性，使電流波動明顯降低。此外，形貌對氧化鋅納米陣列的場發(fā)射電流密度和閾值電壓有明顯影響，而且不同形貌的氧化鋅納米陣列的抗濺射能力也不相同。 |
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| 作者： |
倪賽力，常永勤，陳喜紅，張寅虎，多永正，強(qiáng)文江，龍毅
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| 上傳時(shí)間： |
2008-09-05 14:23:47 |
| 下載次數(shù)： |
32 |
| 消耗積分： |
2
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