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負偏壓增強金剛石膜與襯底結合強度的理論研究  
負偏壓增強金剛石膜與襯底結合強度的理論研究
資料類型: PDF文件
關鍵詞: 金剛石膜  硅襯底  結合力  
資料大小: 100K
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簡介:
由于金剛石與Si有較大的晶格失配度和表面能差,利用化學氣相沉積(CVD)制備金剛石膜時,金剛石在鏡面光滑的Si表面上成核率非常低。而負襯底偏壓能夠提高金剛石在鏡面光滑的Si表面上的成核率,表明金剛石核與Si表面的結合力也得到增強。利用負偏壓增強CVD系統制備金剛石膜時,氣體輝光放電產生的離子對Si表面轟擊,使得Si襯底表面產生了微缺陷(凹坑),增大了金剛石膜與Si襯底的結合面積。本工作主要從理論上研究離子轟擊對金剛石膜與Si襯底結合力的影響。
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上傳時間: 2007-07-11 14:23:33
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