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濺射氣壓對ZrO2薄膜微結(jié)構(gòu)與光學(xué)性能的影響  
濺射氣壓對ZrO2薄膜微結(jié)構(gòu)與光學(xué)性能的影響
資料類型: PDF文件
關(guān)鍵詞: ZrO2薄膜  磁控濺射  濺射氣壓  相結(jié)構(gòu)  O  /Zr  
資料大小: 136K
所屬學(xué)科:
來源: 來源網(wǎng)絡(luò)
簡介:
利用射頻反應(yīng)磁控濺射在顯微玻璃、單晶硅片、NaCl和石英上沉積ZrO2薄膜。膜厚60~80nm。研究發(fā)現(xiàn),濺射氣壓升高,薄膜結(jié)晶程度降低,同時存在單斜相和四方相;晶粒尺寸增大;折射率上升;透射率在700~1000nm波段上升。這些結(jié)果表明濺射氣壓影響ZrO2薄膜生長機制、微觀結(jié)構(gòu)和成份,進而影響其光學(xué)性能。
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上傳時間: 2007-07-17 16:31:22
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相關(guān)評論 共有1人發(fā)表評論 更多評論
shisonglin    2009-03-20 2:06:17
hen hao
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