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濺射氣壓對ZrO2薄膜微結(jié)構(gòu)與光學(xué)性能的影響  
濺射氣壓對ZrO2薄膜微結(jié)構(gòu)與光學(xué)性能的影響
資料類型： PDF文件
關(guān)鍵詞： ZrO2薄膜  磁控濺射  濺射氣壓  相結(jié)構(gòu)  O  /Zr  
資料大小： 136K
所屬學(xué)科：
來源： 來源網(wǎng)絡(luò)
簡介：
利用射頻反應(yīng)磁控濺射在顯微玻璃、單晶硅片、NaCl和石英上沉積ZrO2薄膜。膜厚60～80nm。研究發(fā)現(xiàn)，濺射氣壓升高，薄膜結(jié)晶程度降低，同時(shí)存在單斜相和四方相；晶粒尺寸增大；折射率上升；透射率在700~1000nm波段上升。這些結(jié)果表明濺射氣壓影響ZrO2薄膜生長機(jī)制、微觀結(jié)構(gòu)和成份，進(jìn)而影響其光學(xué)性能。
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上傳時(shí)間： 2007-07-17 16:31:22
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相關(guān)評論 共有1人發(fā)表評論 更多評論
shisonglin    2009-03-20 2:06:17
hen hao
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