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磁控反應濺射制備的Ta2O5 薄膜的光學與介電性能  
磁控反應濺射制備的Ta2O5 薄膜的光學與介電性能
資料類型: PDF文件
關鍵詞: 氧化鉭薄膜  光學性質  介電譜  
資料大小: 256K
所屬學科: 分子表征
來源: 2007年第六屆中國功能材料及其應用學術會議暨2007國際功能材料專題論壇論文集(11.15-11.19,武漢)
簡介:
采用直流磁控反應濺射技術,在不同的Ar/O2比條件下制備了系列Ta2O5薄膜樣品,采用紫外-可見光透射光譜和橢偏光譜測試分析技術,研究了Ta2O5薄膜在可見光范圍內的透射率、折射率和消光系數;同時還采用HP4192A阻抗分析儀測試分析了樣品在500Hz~13MHz頻段的介電譜,結果表明在300~700nm的可見光波長范圍內,氧化鉭薄膜的消光系數k→0,折射率n>2.0,透射率大約80%。500Hz下的低頻介電常數ε的典型值為20.1。損耗角正切tg為19.9。
作者: 張幸福,魏愛香,劉毅
上傳時間: 2008-08-27 16:18:44
下載次數: 42
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相關評論 共有1人發(fā)表評論 更多評論
chczll    2008-11-18 10:54:10
很有用,謝謝
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