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課題組簡介

導師簡介：

  鄧海博士，國家千人特聘專家，復旦大學高分子科學系，聚合物分子工程國家重點實驗室，教授，博士生導師。師從活性自由基聚合和活性陽離子聚合的先驅者Sawamoto教授，曾在美國Akron大學高分子系、加州伯克利大學化學系深造，關于立體可控聚合的研究成果收錄在美國的教科書中。此外，鄧教授擁有豐富的產業經驗，特別是乳液聚合、半導體光刻材料的研發經驗。曾任美國羅門哈斯公司（現為陶氏化學公司）高級研究員、美國英特爾公司材料部門高級主管，東京應用化學公司Fellow。

主要研究領域有：

  主攻下一代半導體制程用的光刻材料，特別是10 nm以下分辨率材料的設計合成及應用。課題組受到國家及企業的大力支持，研究經費充足，擁有完善的光刻材料的合成，表征及性能測試平臺。目前已經攻克了5 nm~ 10 nm高分辨率的聚合物納米材料。

課題組主頁： http://www.polymer.fudan.edu.cn/polymer/research/denghai/ 

課題背景簡介

  半導體制造中最關鍵的材料是光刻膠，有多高分辨率的光刻膠就能造出多小的器件。過去的50年內，半導體產業一直沿著Moore’s law前行。Intel、臺積電和三星微電子都已進入了7 nm分辨率的EUV光刻工藝，并將很快進行量產。面對半導體芯片領域向更小、更快和更高密度方向發展的趨勢，下一代 10~5 nm 半導體制程的光刻技術和材料已成為全球半導體行業的研發熱點。

  目前國內的半導體工藝研發也進入了14 nm制程，國內只能量產低端的i-線光刻材料（國外30年前的產品），國內的高端光刻膠產業幾乎處于空白狀態，所有的90 nm~ 14 nm制程用的光刻材料完全依靠日本進口。

  下一代10 nm及以下半導體制造所需的EUVL和DSA光刻材料，目前被美國和日本企業所壟斷。為了不再受制于人，我國急需研發探索10納米以下的下一代光刻材料來打破了技術壁壘，實現彎道超車。目前本組已研發出世界上最快速自組裝的、5 nm超高分辨率的DSA材料，該成果已發表在SPIE（美國光電協會）等國際會議上，受到廣泛好評。為了更好地保護本組知識產權，目前已申請了若干中國及美國專利，相關論文正在整理之中。

招聘基本要求

  由于科研工作需要，本課題組招聘博士后研究員1～2名，進行10納米以下的下一代光刻材料的研究，具體要求如下：

1、金屬有機背景，熟悉烯烴聚合、茂金屬催化聚合的博士或有相關合成研究工作經驗的博士（應屆的或者有工作經驗的）。

2、具有良好的英文閱讀和寫作能力，能快速查閱外文文獻，已發表過相關領域英文論文。

3、需要具有一定的指導學生的能力。將會帶領在讀的碩士、博士生進行項目攻關，身體力行地帶領團隊研發出新型的高分辨率DSA或含金屬EUV光刻材料。

4. 性格開朗，有個人魅力。最好是體育愛好者。

職業規劃方向

  本課題組與國內外的知名企業有廣泛的合作，可以為候選人提供未來事業發展的支持，可以優先推薦給陶氏化學、上海新陽半導體、中芯國際等公司。

個人待遇

  課題組為入選者提供優越的科研條件和穩定的支持，按照復旦大學有關博士后的規定提供相應個人待遇，課題組根據研究進展和貢獻給予補貼，年薪18萬起。住房：復旦大學根據申請者要求，提供學校附近一室或二室住房，租金約為市場價格一半。

應聘申請材料

  請應聘者將申請材料（簡歷和代表論文全文）發至haideng@fudan.edu.cn。

招聘時間

  申請時間為2018年9~11月。